TOC超純水設(shè)備

微電子行業(yè)制備超純水流程中，因紫外線技術(shù)在超純水高品質(zhì)要求中不引入新的物質(zhì)，而得到廣泛應(yīng)用。

有機物是超純水系統(tǒng)中最難控制的污染，隨著集成電路臨界尺寸不斷縮小挑戰(zhàn)，對超純水中TOC值的要求越來越高，因此，如何配置紫外線，如何確認配置中紫外線設(shè)備的有效紫外劑量，進而使TOC去除合格且水中溶解氧不升高，安力斯將為您解決這些運營困擾。    

185nmUV主要用于去除超純水制備過程中的TOC，使出水滿足美國ASTM超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)及電子工業(yè)部電子級水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。

產(chǎn)品介紹：

EX-UPW-TOC產(chǎn)品系列是一款適用于超純水 (UPW) 制備中對總有機碳 (TOC) 進行降解的可靠系統(tǒng)。通過更高185nm穿透率、實時在線的紫外線強度監(jiān)測、本地/遠程的智能控制，實現(xiàn)高效、安全可控的總有機碳 (TOC) 降解。該設(shè)備在超純水制備工藝中，可使超純水TOC降至1ppb以下。

產(chǎn)品主要組成：高強度185nm的紫外燈管，高輸出石英套管，內(nèi)外電解拋光的一體化紫外反應(yīng)器，高度精確的UV強度傳感器及智能自控系統(tǒng)組成。

TOC超純水設(shè)備

產(chǎn)品規(guī)格：